国产DUV光刻机启动量产传闻引发全球半导体设备股暴跌，日韩股市剧烈调整

美国科技媒体披露，一家位于上海的企业已启动生产，并从宇量昇科技等光刻初创公司抽调人员组建研发团队，计划2026年生产约五台DUV光刻机，2027年目标约20台。

浸没式DUV光刻机用于在硅晶圆上印制电路图形，是当前中国晶片制造商能使用的最先进光刻设备。荷兰阿斯麦（ASML）被禁止对华出口最先进的极紫外光刻机（EUV），中国也在研发国产EUV，但处于原型机阶段。路透社引述消息人士证实中国开始生产国产DUV，并指出仅成立三年的上海爱晟纳电子科技集团正领导生产工作。天眼查数据显示，爱晟纳成立于2023年8月，注册资本逾70亿元人民币，由上海电气控股和上海国际信托旗下子公司等两家国有企业持股。

消息人士称，爱晟纳的DUV光刻机仍需进一步测试，与阿斯麦机型相比存在差距，不会直接构成商业威胁。但市场担忧该设备对阿斯麦在华市场地位构成挑战，导致阿斯麦股价7月27日一度重挫8.3%，跌至6月初以来最低水平。荷兰ASM国际股价下跌7.3%，贝西半导体股价下挫9.9%，美国应用材料公司股价下滑6.7%，泛林集团股价下跌7.9%。

半导体股领跌导致日韩股市7月28日大幅下挫。日本日经225指数一度下跌4%，跌至5月22日以来最低水平。韩国Kospi一度重挫7.6%，创4月20日以来最低水平。东京威力科创、铠侠、三星电子和SK海力士等半导体设备类股领跌，SK海力士一度下跌30%，创最大纪录跌幅；铠侠一度下跌18%，创2025年11月以来最大跌幅。

DUV光刻机涉及高精度激光源、超精密光学系统、纳米级运动控制、实时像差补偿等尖端领域，产率（每小时晶圆处理量）和光刻精度是关键指标。