捷佳伟创子公司创微微电子光掩模清洗设备完成验证并量产交付，关键零部件国产化率超80%
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捷佳伟创子公司创微微电子（常州）有限公司自主研发的光掩模清洗设备，已在多家终端Fab厂完成验证并实现量产交付。该设备在颗粒控制、无水痕及表面洁净度方面均满足先进制程要求。
在光掩膜清洗领域，创微微电子已形成完整产品矩阵，覆盖5英寸至9英寸多种尺寸的石英光掩膜，支持前后面全自动清洗，可选配AOI颗粒检测及SMIF自动上下料功能。关键零部件国产化率超过80%，软件实现完全自主开发。