上海爱晟纳电子科技集团开始生产国产浸没式深紫外光刻机，计划今年生产约五台，交付中芯国际、华虹半导体和长鑫存储

位于上海的一家国资企业已启动DUV生产，并从上海宇量昇科技等其他中国企业抽调人员组建研发团队，计划今年生产约五台，明年目标约20台。荷兰晶片设备制造商阿斯麦被禁止对华出口最先进的极紫外光刻机（EUV），使浸没式DUV成为中国晶片制造商当前能使用的最先进光刻设备。

上海爱晟纳电子科技集团成立于2023年8月，注册资本逾70亿元人民币，专注于半导体与电子专用设备研发、制造和销售。该集团由上海电气控股和上海国际信托旗下子公司等两家国有企业持股，在整合来自中国顶尖光刻初创公司的团队后，正领导DUV生产工作。

知情人士称，爱晟纳的DUV光刻机还需进一步测试，与阿斯麦机型相比仍有很大差距，不会直接构成商业威胁。7月27日，阿斯麦股价跌至6月初以来最低水平，一度重挫8.3%。深紫外光刻机使用193纳米波长，通过多次曝光雕刻电路，适用于生产七纳米以上成熟晶片；极紫外光刻机使用13.5纳米波长，需在真空环境下通过反射镜运作，主要用于生产五纳米及以下先进晶片。