美国科技媒体披露，一家位于上海的企业已启动生产，并从宇量昇科技等光刻初创公司抽调人员组建研发团队，计划2026年生产约五台DUV光刻机，2027年目标约20台。

浸没式DUV光刻机用于在硅晶圆上印制电路图形，是当前中国晶片制造商能使用的最先进光刻设备。荷兰阿斯麦（ASML）被禁止对华出口最先进的极紫外光刻机（EUV），中国也在研发国产EUV，但处于原型机阶段。路透社引述消息人士证实中国开始生产国产DUV，并指出仅成立三年的上海爱晟纳电子科技集团正领导生产工作。天眼查数据显示，爱晟纳成立于2023年8月，注册资本逾